Innovative Technologielösungen entwickeln und diese in die Anwendung bringen – das ist das Ziel des Fraunhofer IPMS. Als Experten in der Entwicklung photonischer Mikrosysteme, zugehöriger Technologien inklusive der Nanoelektronik und drahtloser Kommunikationslösungen bieten wir unseren Kunden dabei langjährige Erfahrung und modernstes Know-How.
Das Fraunhofer IPMS ist international führender Forschungs- und Entwicklungsdienstleister für elektronische und photonische Mikrosysteme in den Anwendungsfeldern Intelligente Industrielösungen und Fertigung, Medizintechnik und Gesundheit sowie Verbesserte Lebensqualität. Unsere Forschungsschwerpunkte sind miniaturisierte Sensoren und Aktoren, integrierte Schaltungen, drahtlose und drahtgebundene Datenkommunikation sowie kundenspezifische MEMS-Systeme. Das Institut arbeitet dabei an elektronischen, mechanischen und optischen Komponenten und ihrer Integration in miniaturisierte Bauelemente und Systeme und ist Forschungs- und Servicepartner auf dem Gebiet optischer Sensoren und Aktoren, ASICs, Mikrosysteme (MEMS / MOEMS/ CMOS) sowie Nanoelektronik.
Unser Leistungsangebot reicht von der Konzeption über die Produktentwicklung bis zur Pilotfertigung in eigenen Labor- und Reinräumen, vom Bauelement bis zur kompletten Systemlösung.
Als eine von gegenwärtig 75 eigenständigen Einrichtungen der Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V., der europaweit führenden Organisation für industrienahe Forschung, arbeiten wir mit mehr als 400 Mitarbeitern gemeinsam mit Industrieunternehmen, Dienstleistungsunternehmen und der öffentlichen Hand an Projekten zum direkten Nutzen für Unternehmen und zum Vorteil der Gesellschaft. Das Fraunhofer IPMS ist Teil des Fraunhofer-Verbundes Mikroelektronik VµE und engagiert sich in zahlreichen regionalen und internationalen Netzwerken der Mikroelektronik und Mikrosystemtechnik.
Um den hohen Ansprüchen unserer Kunden zu genügen, ist das Fraunhofer IPMS für Forschung, Entwicklung und Fertigung photonischer Mikrosysteme, die entsprechenden Halbleiter- und Mikrosystemprozesse, integrierte Aktorik/Sensorik und Beratung von der DEKRA nach der Norm DIN EN 9001:2015 zertifiziert.
Unser Institut ist an vier Standorten vertreten. Der Hauptsitz befindet sich auf der Maria-Reiche-Straße 2 in Dresden-Klotzsche. Auf dem Gelände befindet sich ein 1500 m² großer MOEMS/MEMS-Reinraum (Klasse 4 nach ISO 14644-1), der für die Technologieentwicklung bis hin zur Pilotfertigung innovativer Mikrosysteme auf 200 mm genutzt werden kann. Das Leistungsangebot umfasst die Waferprozessierung, Charakterisierung & Test, Aufbau- und Verbindungstechnik sowie die Organisation von externen Dienst- und Zulieferleistungen.
Der Bereich »Center Nanoelectronic Technologies« verfügt über eine eigene Reinraum-Infrastruktur für die Prozess- und Materialentwicklung auf 300 mm Wafer mit der Außenstelle “An der Bartlake 5” in unmittelbarer Nähe zum Chipproduzenten Globalfoundries. Zur Bearbeitung der Kundenaufträge stehen auf 4000 m² Reinraumfläche der Klasse 6 und 3 (nach ISO 14644-1) sowie Laborflächen für über 60 Prozessierungs- und Analytiktools zur Verfügung. Der Anlagenpark umfasst unter anderem Abscheide- und Ätzanlagen sowie Inspektions- und Analysegeräte zum Bestimmen von Defekten und dem Messen von Schichteigenschaften.
Am Standort Cottbus arbeiten wir im Institutsteil »Integrated Silicon Systems« sowohl an monolithisch integrierten Aktor- und Sensorsystemen als auch an Terahertz-Mikromodulen und -Applikationen.
Im gemeinsam mit Fraunhofer IOF und IZI in Erfurt betriebenen Projektzentrum »Mikroelektronische und Optische Systeme für die Biomedizin« liegt der Fokus auf neuartigen Systemen für Anwendungen in der Biomedizin.
Weitere Informationen zu unserem Institut finden Sie unter: https://www.ipms.fraunhofer.de
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SO 14644-1; DIN EN 9001:2015
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